2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[21p-145-1~14] 13.3 絶縁膜技術

2018年9月21日(金) 13:15 〜 17:00 145 (レセプションホール)

山本 圭介(九大)、堀田 育志(兵庫県立大)

15:30 〜 15:45

[21p-145-9] 異種酸化物界面のダイポール形成に非晶質短距離秩序構造の違いが与える影響

金丸 翔大1、高橋 憶人1、ぺレア マーク1、富田 基裕1、渡邉 孝信1 (1.早大理工)

キーワード:high-k、ダイポール、シミュレーション