2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.9 テラヘルツ全般

[21p-212A-1~6] 3.9 テラヘルツ全般

2018年9月21日(金) 13:15 〜 14:45 212A (212-1)

坪内 雅明(量研機構)

14:30 〜 14:45

[21p-212A-6] 高強度THz電場パルスによるGe2Sb2Te5の1次元的結晶成長機構の解明

〇(D)佐成 晏之1、立崎 武弘2,3、齊藤 雄太4、牧野 孝太郎4、Fons Paul4、Kolobov Alexander V.4、富永 淳二4、田中 耕一郎3,5、金光 義彦1、長谷 宗明6、廣理 英基1,3 (1.京大化研、2.東海大工、3.京大iCeMS、4.産総研ナノエレ、5.京大院理、6.筑波大数物)

キーワード:相変化材料、高強度テラヘルツ分光、非線形伝導

相変化メモリ材料Ge2Sb2Te5において高強度THz光電場による電場方向に沿った1次元的結晶成長が顕微画像における白色光反射率変化から観測された。結晶相においてゼナートンネリングにより電気伝導度が非線形に増加していることが過渡反射率変化から明らかになった。