[21p-235-1~12] 7.1 X-ray technologies

[21p-235-9] Studies of EUV-induced hydrogen plasmas using spectroscopic measurements

〇Kouichiro Kouge¹, Tomoyoshi Toida¹, Rei Takenaka¹, Hiroaki Tomuro¹, Masahito Kunishima¹, Georg Soumagne¹, Tatsuya Yanagida¹, Takeshi Kodama¹, Kentaro Tomita², Rei Imada², Kiichiro Uchino² (1.Gigaphoton inc, 2.Kyushu Univ.)

Keywords:EUV sources, EUV-induced plasmas, spectroscopic measurements

LPP方式EUV光源のコレクタミラー表面では、Snの付着と、EUV照射により生成された水素プラズマによるSnエッチングが同時に進行していると推定される。この水素プラズマの発生メカニズムを解明し、エッチングプロセスを最適化することを目的として、EUV誘起水素プラズマの計測を行った。計測手法として分光計測を適用し、EUV照射により固体表面に水素プラズマが発生している事を確認した。本件では、その実験結果を報告する予定である。