2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[21p-331-1~8] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2018年9月21日(金) 13:45 〜 16:00 331 (国際会議室)

久保 俊晴(名工大)

13:45 〜 14:00

[21p-331-1] NiO/β-Ga2O3ヘテロ接合ダイオードのスイッチング応答の温度依存性

中込 真二1、菊地 賢太郎1、矢野 浩司2、國分 義弘1 (1.石巻専修大理工、2.山梨大工)

キーワード:酸化ガリウム、スイッチング、高温

本研究では, NiO/β-Ga2O3間のpnヘテロ接合ダイオードのスイッチング特性に着目し, 高温状態における振る舞いについて実験的に検討した。室温から500℃までの範囲で電流-電圧特性と 過渡的応答波形を測定した。500℃の高温においても良好なスイッチングが可能であること, 温度の上昇に伴って逆方向スイッチング損失が増加することが示された。