The 79th JSAP Autumn Meeting, 2018

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8 Plasma Electronics » 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[21p-PB1-1~18] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

Fri. Sep 21, 2018 1:30 PM - 3:30 PM PB (Shirotori Hall)

1:30 PM - 3:30 PM

[21p-PB1-12] Evaluation of Visible Light Responsive TiO2 Irradiated with Nitrogen Plasma

Hayato Tomii1, Taishi Hirose1, Yuichirou Takemura1 (1.Kindai Univ.)

Keywords:plasma, photocatalyst, surface treatment

光触媒は、光の照射により酸化力の強いラジカルが生成され、その酸化分解作用によるセルフクリーニング性能を用いて、外壁の防汚等に活用されるが、代表例である酸化チタンは、紫外光の照射時のみ酸化分解作用を示し、屋内で利用できないので、酸化分解作用の可視光応答化が求められている。本研究では電子ビーム励起プラズマ装置を用いて、酸化チタンに窒素プラズマ処理を行い、処理試料の分析及び可視光応答性について評価をした