[21p-PB1-1~18] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[21p-PB1-7] ターゲット利用率向上のための回転十字型高周波マグネトロンスパッタ装置の開発

〇(M1)田中 黎¹、大津 康徳¹、中村 優太朗¹ (1.佐大院工)

キーワード：スパッタリング、マグネトロン、プラズマ