[21p-PB2-1~5] 8.3 プラズマナノテクノロジー

[21p-PB2-1] 斜め堆積反応性スパッタリング法における成膜速度に対する基板形状の影響

〇(M2)泉澤 宏樹¹、細谷 昌史¹、井上 泰志¹、高井 治² (1.千葉工大、2.関東学院大)

キーワード：スパッタリング