Wen Hsin Chang

発表者・著者、共著者

2018年3月19日(月) 13:30 〜 17:10 G203 (63-203)

シンポジウム(口頭講演)
| シンポジウム
| ゲルマニウムはシリコンを代替するのか？

[19p-G203-1~7] ゲルマニウムはシリコンを代替するのか？

14:30 〜 15:00

▲ [19p-G203-3] High quality UTB GeOI by HEtero-Layer-Lift-Off (HELLO) technology for future Ge CMOS application

〇Wen Hsin Chang¹、Toshifumi Irisawa¹、Hiroyuki Ishii¹、Hiroyuki Hattori¹、Hiroyuki Ota¹、Hideki Takagi¹、Yuichi Kurashima¹、Noriyuki Uchida¹、Tatsuro Maeda¹ (1.AIST)

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