13:30 〜 15:30 [20p-P4-11] Ar/O2混合プラズマ処理した酸化Si表面における吸着Cs原子の安定化と光支援熱電子放出の関係 〇安原 弘一郎1、荻野 明久1、鈴木 淳平1 (1.静大院工)