17:15 〜 17:30 [18p-F202-15] 微細半導体プロセスにおけるシングルイベント耐性強化技術の検討 〇(D)丸 明史1,2、松田 晃史1、吉本 護1 (1.東工大、2.宇宙航空研究開発機構)