Yoshito Hirokawa

→ Google ScholarでYoshito Hirokawaを検索

発表者・著者、共著者

2018年3月17日(土) 09:00 〜 12:30 F206 (61-206)

一般セッション(口頭講演)
| 13 半導体
| 13.3 絶縁膜技術

[17a-F206-1~13] 13.3 絶縁膜技術

10:45 〜 11:00

▲ [17a-F206-8] Heat treatment in liquid water at 80^oC used to improve the interface characteristic of metal-oxide-semiconductor capacitor

〇Yoshito Hirokawa¹、Masahiko Hasumi¹、Toshiyuki Samesima¹、Tomohisa Mizuno² (1.TUAT、2.Kanagawa Univ.)