16:00 〜 18:00 [19p-P10-5] Ge(111)基板上の歪みSi1-xGex膜成長と臨界膜厚の評価 〇(M2)坂本 優1、山田 道洋2、浜屋 宏平2、澤野 憲太郎1 (1.都市大院工、2.阪大)