一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.5 レーザー装置・材料
2018年3月17日(土) 09:00 〜 11:15 B403 (53-403)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇長谷川 クルミ1、岡村 秀樹1 (1.国際基督教大)
スケジュール
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09:15 〜 09:30
〇南 友梨1、秦野 加奈1、川上 言美2、岡村 秀樹1 (1.国際基督教大学理学部、2.北里大)
スケジュール
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09:30 〜 09:45
〇秦野 加奈1、南 友梨1、尾股 紘希1、川上 言美2、岡村 秀樹1 (1.国際基督教大、2.北里大)
スケジュール
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09:45 〜 10:00
〇原口 英介1、細川 麻菜1、安藤 俊行1、高山 佳久2 (1.三菱電機(株)、2.東海大)
スケジュール
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10:00 〜 10:15
〇細川 麻菜1、原口 英介1、安藤 俊行1、高山 佳久2 (1.三菱電機、2.東海大学)
スケジュール
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10:30 〜 10:45
奈良 優樹1、〇小澤 祐市1、佐藤 俊一1 (1.東北大多元研)
スケジュール
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10:45 〜 11:00
〇(D)Yuanyuan Ma1、Jung-Chen Tung2、Katsuhiko Miyamoto1,2、Yung-Fu Chen3、Takashige Omatsu1,2 (1.Chiba Univ.、2.Molecular chirality research center、3.National Chiao Tung Univ.)
スケジュール
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11:00 〜 11:15
〇(D)Roukuya Mamuti1、Shungo Araki1、Shigeki Nishida1、Katsuhiko Miamoto1、Takashige Omatsu1,2 (1.Chiba Univ.、2.MCRC)
スケジュール
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