一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.2 材料・機器光学
2018年3月17日(土) 13:15 〜 16:45 B203 (53-203)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:15 〜 13:30
〇富田 康生1、影山 明久1、磯 由布子1、青井 紀1、J. Klepp2、C. Pruner3、M. Fally2 (1.電通大院情報理工、2.ウィーン大、3.ザルツブルグ大)
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13:30 〜 13:45
〇三浦 裕貴1、横山 士吉1,2 (1.九州大総理工、2.九州大先導研)
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13:45 〜 14:00
朱 峻鋒1、中窪 奎喬1、吉岡 宏晃1、森田 金市2,1、〇興 雄司1 (1.九大院システム情報、2.ウシオ電機)
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇望月 典明1、森田 陵太郎1 (1.日本化薬)
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14:15 〜 14:30
〇(M1)太田 正倫1、小澤 慎太郎1、藤枝 一郎1 (1.立命館大理工)
スケジュール
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14:30 〜 14:45
〇小澤 慎太郎1、太田 正倫1、藤枝 一郎1 (1.立命館大理工)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇藤枝 一郎1 (1.立命館大理工)
スケジュール
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15:15 〜 15:30
〇(B)小林 颯1、津田 裕之1 (1.慶応大理工)
スケジュール
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15:30 〜 15:45
〇坂本 盛嗣1、野田 浩平1、佐々木 友之1、川月 喜弘2、小野 浩司1 (1.長岡技科大、2.兵庫県立大)
スケジュール
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15:45 〜 16:00
〇野田 浩平1、百﨑 龍成1、大越 健太郎1、坂本 盛嗣1、佐々木 友之1、岡本 浩行2、川月 喜弘3、小野 浩司1 (1.長岡技科大、2.阿南高専、3.兵庫県立大)
スケジュール
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16:00 〜 16:15
〇松原 譲1、野田 浩平1、河合 孝太郎1、坂本 盛嗣1、佐々木 友之1、川月 喜弘2、後藤 耕平3、小野 浩司1 (1.長岡技科大、2.兵庫県立大、3.日産化学工業（株）)
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16:15 〜 16:30
斉藤 慎太郎1、〇河村 希典1、佐藤 進2 (1.秋田大院理工、2.液晶レンズ研究所)
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16:30 〜 16:45
〇本田 光裕1、日角 公紀1 (1.名工大)
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