一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス
2018年3月18日(日) 13:45 〜 18:00 C102 (52-102)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:45 〜 14:00
〇大村 泰久1、山口 凛太郎1、佐藤 伸吾1 (1.関西大)
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇大村 泰久1、佐藤 伸吾1 (1.関西大)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇大村 泰久1、赤野 拓哉1,2、佐藤 伸吾1 (1.関西大、2.奈良先端大学院大)
スケジュール
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14:30 〜 14:45
〇(PC)FIRMAN MANGASA SIMANJUNTAK1、Takeo Ohno1、Seiji Samukawa1 (1.Tohoku Univ.)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇西 義史1,2、メンツェル ステファン2,3 (1.東芝研開セ、2.アーヘン工大、3.ユーリッヒ研究所)
スケジュール
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15:00 〜 15:15
〇島 久1、高橋 慎1、内藤 泰久1、秋永 広幸1 (1.産総研)
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15:15 〜 15:30
〇三沢 源人1、川北 純平2,3、谷内 敏之2,3、辛 埴2,3、内藤 泰久1,2、島 久1,2、秋永 広幸1,2 (1.産総研ナノエレ、2.OPERANDO-OIL、3.東大物性研)
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15:30 〜 15:45
〇岩田 達哉1,2、澤田 和明1,2 (1.豊技大、2.エレクトロニクス先端融合研究所)
スケジュール
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16:00 〜 16:15
〇(M2)川北 純平1,2、島 久2,3、内藤 泰久2,3、秋永 広幸2,3、谷内 敏之1,2、辛 埴1,2 (1.東大物性研、2.産総研・東大 オペランド計測、3.産総研ナノエレ)
スケジュール
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16:15 〜 16:30
〇清水 拓磨1、永田 善也1、竹内 正太郎1、藤平 哲也1、酒井 朗1 (1.阪大院基礎工)
スケジュール
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16:30 〜 16:45
〇永田 善也1、清水 拓磨1、竹内 正太郎1、藤平 哲也1、酒井 朗1 (1.阪大院基礎工)
スケジュール
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16:45 〜 17:00
〇(B)渡邊 佑紀1、清水 亮太1,2、西尾 和記1、杉山 一生1、リウ ウェイ3、渡邉 聡3、一杉 太郎1 (1.東工大物質理工、2.JSTさきがけ、3.東大工)
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17:00 〜 17:15
〇高柳 真1,2、土屋 敬志2、並木 航1,2、樋口 透1、寺部 一弥2 (1.東理大、2.物材機構)
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17:15 〜 17:30
〇(B)清水 敦史1、肥田 聡太2、岸田 悟2、木下 健太郎1 (1.東京理科大理、2.鳥取大工)
スケジュール
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17:30 〜 17:45
〇(B)荒畑 雅也1、西 佑介1、木本 恒暢1 (1.京大工)
スケジュール
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17:45 〜 18:00
〇宮谷 俊輝1、西 佑介1、木本 恒暢1 (1.京大工)
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