一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料
2018年3月19日(月) 09:00 〜 12:15 C103 (52-103)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇Lina Sun1、Yuu Kurosawa1、Yoshiyuki Suzuri1、Naoko Okimoto2、Hiroki Maeda2 (1.Yamagata Univ. INOEL、2.Dai Nippon Printing)
スケジュール
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09:15 〜 09:30
〇(PC)Leila Alipour1、Tohru Sugahara1、Jun-ichi Nakamura2、Hironobu Ono2、Nobuyuki Harada2、Katsuaki Suganuma1 (1.Osaka Univ.、2.Nihon Shokubai)
スケジュール
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09:30 〜 09:45
〇(PC)Seongho Choi1、Satoshi Hiroi2、Shunsuke Nishino1、Manabu Inukai3、Dogyun Byeon1、Masashi MiKami4、Tsunehiro Takeuchi1 (1.Toyota Tech. Inst.、2.NIMS、3.Nagoya Inst. Tech.、4.AIST Chubu)
スケジュール
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09:45 〜 10:00
〇Takashi Komesu1、Hemian Yi2、Simeon Gilbert1、Guanhua Hao1、Andrew Yost1、Alexey Lipatov3、Alexander Sinitskii3、Jose Avila2、Chaoyu Chen2、Maria Asensio2、Peter Dowben1 (1.U. of Nebraska Phsy.、2.SOLEIL、3.U. of Nebraska Chem.)
スケジュール
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10:00 〜 10:15
〇Huie Zhu1、Buket Akkus1、Shunsuke Yamamoto1、Jun Matsui2、Tokuji Miyashita1、Masaya Mitsuishi1 (1.Tohoku University、2.Yamagata University)
スケジュール
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10:15 〜 10:30
〇(D)Vitchaphol Motaneeyachart1、Yasushi Hirose1、Tetsuya Hasegawa1 (1.Univ. of Tokyo)
スケジュール
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10:45 〜 11:00
〇佐野 翼1、加藤 昇1、宮川 勇人1、高橋 尚志1 (1.香川大)
スケジュール
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11:00 〜 11:15
〇中村 康一1,2 (1.京大学際セ、2.エジプト日本科技大)
スケジュール
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11:15 〜 11:30
〇迫田 將仁1、生田 昂1 (1.農工大工)
スケジュール
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11:30 〜 11:45
曹 祥1、川村 史朗2、谷口 尚2、〇山田 直臣1 (1.中部大工、2.物質･材料研究機構)
スケジュール
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11:45 〜 12:00
〇吉田 智博1、村澤 功基2、工藤 昌輝3、鳥山 誉亮3、内田 聖也4、福井 康雄2、櫻井 正俊2、吉武 剛4 (1.福岡県工技セ機電研、2.オーエスジー株式会社、3.九大超顕微セ、4.九大院総理工)
スケジュール
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12:00 〜 12:15
〇川口 昂彦1、鈴木 淳平1、坂元 尚紀1、鈴木 久男1、脇谷 尚樹1 (1.静大工)
スケジュール
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