一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.7 レーザープロセシング [19a-A404-1~9] 3.7 レーザープロセシング 2018年3月19日(月) 09:00 〜 11:45 A404 (54-404) 佐藤 正健(産総研)、中村 大輔(九大)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.7 レーザープロセシング [19p-A404-1~19] 3.7 レーザープロセシング 2018年3月19日(月) 13:15 〜 18:45 A404 (54-404) 吉田 岳人(阿南高専)、寺川 光洋(慶大)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.8 光計測技術・機器 [19a-C303-1~12] 3.8 光計測技術・機器 2018年3月19日(月) 09:00 〜 12:15 C303 (52-303) 塩田 達俊(埼玉大)、柏木 謙(産総研)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.8 光計測技術・機器 [19p-C303-1~19] 3.8 光計測技術・機器 2018年3月19日(月) 13:45 〜 19:00 C303 (52-303) 金 蓮花(山梨大)、早崎 芳夫(宇都宮大)、美濃島 薫(電通大)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.8 光計測技術・機器 [20p-C303-1~11] 3.8 光計測技術・機器 2018年3月20日(火) 13:45 〜 16:45 C303 (52-303) 染川 智弘(レーザー総研)、齊藤 保典(信州大)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.9 テラヘルツ全般 [19p-A402-1~14] 3.9 テラヘルツ全般 2018年3月19日(月) 13:30 〜 17:15 A402 (54-402) 坪内 雅明(量研機構)、松原 英一(大阪歯科大)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.9 テラヘルツ全般 [20a-A402-1~11] 3.9 テラヘルツ全般 2018年3月20日(火) 09:00 〜 12:00 A402 (54-402) 久武 信太郎(岐阜大)、諸橋 功(情通機構)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.9 テラヘルツ全般 [20p-A402-1~14] 3.9 テラヘルツ全般 2018年3月20日(火) 13:15 〜 17:00 A402 (54-402) 渡邉 紳一(慶大)、野竹 孝志(理研)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.10 光量子物理・技術 [18a-A302-1~8] 3.10 光量子物理・技術 2018年3月18日(日) 09:30 〜 11:45 A302 (54-302) 辻野 賢治(東京女子医大)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.10 光量子物理・技術 [19a-A302-1~10] 3.10 光量子物理・技術 2018年3月19日(月) 09:00 〜 11:45 A302 (54-302) 稲垣 卓弘(NTT)