[17a-F202-1~11] 7.4 量子ビーム界面構造計測

[17a-F202-11] 画像再構成法を用いたX線・中性子反射率マイクロイメージング(1)

〇桜井 健次¹、蒋 金星¹ (1.物材機構)

キーワード：可視化、埋もれた界面、反射率

薄膜の機能は、その膜構造、界面構造に左右されることが多く、構造を評価、検証する技術は不可欠である。現状、電子顕微鏡等による断面観察が有力であるが、そのような断面方向の構造が試料内の位置により異なることが多くあり、不均一さの解析もきわめて重要である。特に非破壊的な測定法の登場は長く待望されていた。本研究では、埋もれた界面を非破壊的に可視化するために、X線・中性子が薄膜の表面、界面で反射する際に生じる投影像を用いた技術開発を継続的に行っている。本発表では、主にX線・放射光による反射率マイクロイメージングの装置開発と応用に関し、最近の進展を報告する。