[17a-F202-1~11] 7.4 Buried interface sciences with quantum beam

[17a-F202-8] Possibility of operando depth profile analysis in multilayer-stacked-film interfaces by near ambient pressure hard x-ray angle-resolved photoemission spectroscopy

〇Satoshi Toyoda¹, Kajino Yuma², Yamamoto Tomoki², Sudo Motoki³, Nose Soichi³, Mizuno Isao³, Sumida Hirosuke⁴, Mineoi Susumu⁴, Machida Masatake⁵, Yokoyama Kazushi² (1.Kyoto Univ., 2.Univ. of Hyogo, 3.SPring-8 Service, 4.Mazda, 5.Scienta Omicron)

Keywords:NAP-HARPES, multilayer-stacked-film interfaces, operando depth profile analysis

近年、光電子分光機器の高度化により試料の位置を変えることなく、広出射角度にわたるデータを一括で取得できるようになり、さらに、作動排気システムにより大気圧に近い条件下(NAP)での角度分解光電子分光(ARPES)計測が可能になってきた。我々は、HAXPESを用いて検出深さを深くしてNAP計測を可能にするNAP-HAXPES装置を開発するとともに、短時間で取得したHARPESデータでも多層積層薄膜界面の深さ方向分布を抽出できる手法を開発した。NAP-HARPESにより、多層積層薄膜に埋もれた界面における深さ方向分布のオペランド計測・解析も視野に入ってきたため、その実現可能性について議論する。