[17p-C103-1~13] 6.4 薄膜新材料

[17p-C103-3] 液体プロセスを用いた酸化物TFTのフレキシブル基板上への低温形成

〇乾 京介¹、芳本 裕樹¹、李 金望¹、林 真一朗¹、下田 達也¹ (1.北陸先端大)

キーワード：液体プロセス、薄膜トランジスタ

我々はこれまでに、液体プロセスによる薄膜トランジスタ(TFT)用の酸化物薄膜の低温形成の研究を行ってきた。その中で、TFTの主な構成要素である絶縁層、チャネル層、チャネルストッパー層、及びパッシベーション層の２００℃での低温形成に成功し、ガラス基板上でのアクティブマトリックス用バックプレーンTFTの作製及び電気泳動ディスプレイ(EPD)の動作を確認した。今回、フレキシブル基板上での液体低温プロセス酸化物TFTの動作に成功したので報告する。