The 65h JSAP Spring Meeting, 2018

Presentation information

Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.4 Thin films and New materials

[17p-C103-1~13] 6.4 Thin films and New materials

Sat. Mar 17, 2018 1:45 PM - 6:00 PM C103 (52-103)

Yoshinobu Nakamura(Univ. of Tokyo), Motofumi Suzuki(Kyoto Univ)

4:30 PM - 4:45 PM

[17p-C103-8] Fabrication of ZrH2 thin films using hydrogen-radical assisted pulsed-laser deposition

Akito Nishi1, Kohei Yoshimatsu1, Akira Ohtomo1,2 (1.Tokyo Tech., 2.MCES.)

Keywords:zirconium hydride, hydrogen-radical, PLD

近年発見された高温超伝導やヒドリド伝導に継ぐ,金属水素化物のさらなる展開が期待されている.金属水素化物の物性研究はこれまでバルクを対象とし,薄膜については数例しかない.これまで我々は反応活性の高い水素ラジカルを用いたパルスレーザ堆積法により,単相のTiH2薄膜作製を報告してきた.本研究ではチタンと同じⅣ族のジルコニウム水素化物(ZrH2)に着目し,その薄膜を作製したので報告する.