The 65h JSAP Spring Meeting, 2018

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.5 Plasma phenomena, emerging area of plasmas and their new applications

[17p-C201-1~19] 8.5 Plasma phenomena, emerging area of plasmas and their new applications

Sat. Mar 17, 2018 1:15 PM - 6:15 PM C201 (52-201)

Akinori Oda(Chiba Inst. of Tech.), Nozomi Takeuchi(Titech)

4:15 PM - 4:30 PM

[17p-C201-12] Influence of Applied Voltage Pulse Width on Hydrogen Production by using Pulsed Discharge over Water Surface

Takumi Furutani1, Takeshi Ihara1, Hideo Nagata1, Yagyu Yoshihito1, Ohshima Tamiko1, Masanori Shinohara1, Hiroharu Kawasaki1 (1.NITS)

Keywords:Pulsed Power

近年、再生可能である水素をエネルギー源とする水素社会の実現が検討されており、高効率で低コストな水素生成法の研究が進められている。本研究室では多針電極を用いた水面上パルス放電による水を原料とした水素生成を行っており、これまでの研究成果から水面上パルス放電により幅広い導電率の水から水素を生成できることが分かり、電極間を進展する1次ストリーマと2次ストリーマの電荷量の比較から導電率の上昇と共に電荷量が増加する2次ストリーマの変化は水素生成に与える影響が小さいことが示唆された。そこで本研究では、2次ストリーマが進展する直前に放電を停止させる極短パルス電源を用いて1次ストリーマが水素生成に及ぼす影響を調査した結果を報告する。