[17p-C202-1~15] 17.2 グラフェン

[17p-C202-5] In-situ電気伝導度測定を用いた酸化グラフェン還元過程の解析Ⅲ

〇篠原 拓也¹、小幡 誠司¹、斉木 幸一朗¹ (1.東大新領域)

キーワード：グラフェン、酸化グラフェン、還元

前回我々は、メタン雰囲気中の熱処理での還元において、基板加熱の制御と還元に必要な活性種の生成を独立して行える系を構築して、低温（580 ℃）でのGO還元に成功した。今回は、Wフィラメントの温度を固定してGO還元の基板温度依存性について調べた。それによって480℃という低温でもGO修復反応が進行することを見出した。また、各温度での修復時間からGOの修復反応の活性化エネルギーが0.93 eVであることもわかった。