The 65h JSAP Spring Meeting, 2018

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.1 Plasma production and diagnostics

[17p-C204-1~20] 8.1 Plasma production and diagnostics

Sat. Mar 17, 2018 1:15 PM - 6:30 PM C204 (52-204)

Kentaro Tomita(Kyushu Univ.)

4:30 PM - 4:45 PM

[17p-C204-13] Microwave plasma production in a gap of coaxial-waveguide outer conductor

〇(M1C)Shohei Fujimura1, Haruka Suzuki1, Kensuke Sasai1, Hirotaka Toyoda1 (1.Nagoya Univ.)

Keywords:Plasma, Microwave Plasma

近年、プラズマと液体の相互作用を利用した、廃液処理応用・バイオテクノロジー/農業応用・材料合成応用等が注目されている。これまでに我々は、導波管を貫く流路内にノズル部を設けベンチュリ効果によって減圧環境を生成するとともに、ノズル部に設けた放電用ギャップにより水流周囲に直径6mmの円環状マイクロ波プラズマを生成するインライン型マイクロ波プラズマ装置を開発するとともに、本装置を用いた流体処理効果について報告してきた。さらなる液体処理量の増大を目指し、我々は同軸導波管外周部へのギャップ配置による円環状プラズマの大型化を提案しており、本報告では放電易化を図るための放電部への誘電体配置による電磁界シミュレーションを援用した最適化設計をおこなった結果について報告する。