2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[17p-E202-1~19] 15.4 III-V族窒化物結晶

2018年3月17日(土) 13:15 〜 18:30 E202 (57-202)

岩谷 素顕(名城大)、本田 善央(名大)、齋藤 義樹(TSオプト)

14:45 〜 15:00

[17p-E202-7] スパッタリングAlNバッファ層を用いた緑色LEDの発光特性の改善

〇(B)石本 聖治1、ハン ドンピョ1、松尾 祥平1、山本 賢吾1、上山 智1、竹内 哲也1、岩谷 素顕1、赤﨑 勇1,2 (1.名城大、2.名古屋大・赤﨑記念研究センター)

キーワード:LED、長波長、AlNバッファ層

GaN系長波長LEDの発光効率は活性層内のピエゾ電界により大きく低下する。本研究ではスパッタリングAlNを用いたサンプルは基板の反りが小さいということに着目し、ピエゾ電界の低減に効果があるのではないかと考えた。スパッタリングAlNを低温GaNバッファ層の代わりに用いることにより、緑色LEDのPL強度が約1.6倍に増加した。X線2θ/ω測定により、成長膜の熱歪が抑制されていることが確認された。