2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[17p-F206-1~17] 13.3 絶縁膜技術

2018年3月17日(土) 13:45 〜 18:15 F206 (61-206)

上野 智雄(農工大)、大田 晃生(名大)

18:00 〜 18:15

[17p-F206-17] XPSによるY2O3/SiO2界面の化学結合状態および内部電位評価

藤村 信幸1、大田 晃生1、池田 弥央1、牧原 克典1、宮崎 誠一1 (1.名大院工)

キーワード:XPS、ダイポール