2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

13 半導体 » 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[17p-P12-1~27] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2018年3月17日(土) 16:00 〜 18:00 P12 (ベルサール高田馬場)

16:00 〜 18:00

[17p-P12-7] 高圧水蒸気処理によるSiO2膜の物性および電気的特性変化

安藤 領汰1、上沼 睦典1、藤本 裕太1、石河 泰明1、浦岡 行治1 (1.奈良先端大)

キーワード:高圧水蒸気処理、窒化ガリウム