2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

1 応用物理学一般 » 1.3 新技術・複合新領域

[17p-P2-1~10] 1.3 新技術・複合新領域

2018年3月17日(土) 13:30 〜 15:30 P2 (ベルサール高田馬場)

13:30 〜 15:30

[17p-P2-3] X線および分光学的手法を用いたGaN上の酸化膜および界面状態の評価

棚橋 優策1、熊沢 亮一1、小川 慎吾1、安居 麻美1、村司 雄一1、関 洋文1 (1.東レリサーチセンター)

キーワード:X線反射率測定、GaN、酸化膜