[17p-P8-1~24] 13.5 デバイス／集積化技術

△ [17p-P8-13] スルファミン酸ハイスピード浴を用いて電気めっきしたニッケル膜の機械的特性に及ぼす電流密度の影響

〇山本 貴大¹、井川 健吾¹、Chun-Yi Chen¹、Tso-Fu Mark Chang¹、名越 貴志²、工藤 緯³、前田 龍⁴ (1.東工大、2.産総研、3.アルファ精工、4.シナプス)

キーワード：スルファミン酸ニッケル、電流密度、マイクロ圧縮試験