Plasma Ion Implantation: a Promising Method for Fabricating the Low Cost Interdigitated Back Contact Silicon Heterojunction Solar Cell

講演情報

一般セッション(口頭講演)

16 非晶質・微結晶 » 16.3 シリコン系太陽電池

2018年3月18日(日) 09:00 〜 11:45 D101 (56-101)

國井稔枝(パナソニック)、中田和吉(東工大)

09:45 〜 10:00

〇(P)Tu ThiCam Huynh¹、Koichi Koyama²、Noboru Yamaguchi²、Hideo Suzuki²、Keisuke Ohdaira¹、Hideki Matsumura¹ (1.JAIST、2.ULVAC Inc.)

キーワード：Plasma ion implantation, IBC-SHJ solar cell, counter-doping