The 65h JSAP Spring Meeting, 2018

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Oral presentation

21 Joint Session K » 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

[18a-E201-1~11] 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

Sun. Mar 18, 2018 9:00 AM - 12:15 PM E201 (57-201)

Toshiyuki Kawaharamura(Kochi Univ. of Tech.)

9:30 AM - 9:45 AM

[18a-E201-2] Emission spectral analysis in InGaZnO thin film transistor

Kahori Kise1, Mami N. Fujii1, Juan Polo Bermundo1, Yasuaki Ishikawa1, Yukiharu Uraoka1 (1.NAIST)

Keywords:IGZO, Emission analysis, Impact ionization

近年IGZOに代表される透明酸化物半導体が,次世代のディスプレイを実現するための材料として注目されている.このような素子の長期信頼性を確保するため,劣化メカニズムの解明が不可欠である.これまでに IGZO TFTでインパクトイオン化によるホットキャリアの発生が,チャネルの発光とキンク電流の観測により確認されている.本研究では, IGZO TFTの発光を分光し,ホットキャリア由来とされる発光の物理的な情報を導出することを目的とした.