2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

12 有機分子・バイオエレクトロニクス » 12.2 評価・基礎物性

[18a-F104-1~12] 12.2 評価・基礎物性

2018年3月18日(日) 09:00 〜 12:15 F104 (61-104)

村田 昌樹(ソニー)、マーディー リチャード(京大)

11:00 〜 11:15

[18a-F104-8] Photo-CELIV法によるアルキルフタロシアニン塗布薄膜の両極性キャリア移動度評価

〇(M1)西川 裕己1、仲田 裕哉1、藤井 彰彦1、尾﨑 雅則1 (1.阪大院工)

キーワード:フタロシアニン、キャリア移動度評価、photo-CELIV法

薄膜電子デバイスへの応用が期待されるアルキルフタロシアニン(C6PcH2)の塗布薄膜について、Photo-CELIV法を用いて両極性キャリア移動度評価を行った。単体材料に対する測定は従前困難であったが、C60またはPentacene薄膜を電荷分離層として導入した素子を用いることにより両極性の電荷取り出しに由来する過渡電流波形が得られた。電荷分離層界面でのキャリア生成およびキャリアの拡散を考慮したモデルを提案することによりキャリア移動度を見積もった。