2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

12 有機分子・バイオエレクトロニクス » 12.2 評価・基礎物性

[18a-F104-1~12] 12.2 評価・基礎物性

2018年3月18日(日) 09:00 〜 12:15 F104 (61-104)

村田 昌樹(ソニー)、マーディー リチャード(京大)

11:15 〜 11:30

[18a-F104-9] MIS-CELIV法による正孔輸送材料NPB薄膜中の移動度評価

片桐 千帆1,2、鈴木 友菜2、末延 知義2、中山 健一1,2 (1.山形大院理工、2.阪大院工)

キーワード:電荷移動度、MIS-CELIV

MIS-CELIV法とは、金属、絶縁層、半導体層を積層したMIS構造素子の絶縁層界面に電荷を蓄積させ、その電荷取出しに由来した過渡電流から移動度を求める手法で、有機太陽電池の電子・正孔移動度の測定法として注目され始めている。本研究では、MIS-CELIV法を用いて有機EL正孔輸送材料であるNPBの移動度評価を行うとともに、従来から広く用いられてきたspace-charge limited current (SCLC) 測定の結果と比較することで、MIS-CELIV法による移動度解析の信頼性について議論を行った。