2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

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[18a-F202-1~10] 1.3 新技術・複合新領域

2018年3月18日(日) 09:00 〜 11:45 F202 (61-202)

松谷 晃宏(東工大)

10:00 〜 10:15

[18a-F202-5] Si-Ge-Au混合粉の重力場中熱処理

岡本 庸一1,2、徳田 誠3、緒方 雄大3、宮﨑 尚1、真下 茂3 (1.防衛大、2.物材機構、3.熊本大)

キーワード:重力印加、SiGe

Si/Ge/Au系アモルファス人工格子薄膜の非常に高い熱電能(最大で30 mV•K-1以上)の原因は、熱処理で、薄膜中に現れるナノドットにある。ナノドットの生成過程は、複雑で多段階であり、細部は不明である。また、重力印加が大きな影響を与える事も判明している。今回は、Au, Ge, Siの微粉末を混合、圧粉して、高重力(約40万G)下で、熱処理を行い、その焼成の様子を観測した。