2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.5 デバイス/集積化技術

[18a-G203-1~10] 13.5 デバイス/集積化技術

2018年3月18日(日) 09:00 〜 12:15 G203 (63-203)

右田 真司(産総研)

11:15 〜 11:30

[18a-G203-7] GaAsSb/InGaAsダブルゲートTunnel FETにおける量子効果の検討
‐正孔バンドの取り扱い‐

國貞 彰吾1、福田 浩一1,2、宮本 恭幸1 (1.東工大、2.産総研)

キーワード:トンネルFET、デバイスシミュレーション、正孔の有効質量

量子効果を考慮したTFETのシミュレーション方法と得られた量子効果の影響について述べる.Schrödinger-Poissonの解析を行い,伝導帯,価電子帯の第一サブバンドエネルギーを求めた.このサブバンドエネルギーを実効的なバンドギャップの広がりとみなし,バンドパラメータに反映させて,デバイスシミュレーションを行った.今回は特に重い正孔と軽い正孔の扱いに関して議論する.