[18a-P2-1~9] 3.2 材料・機器光学

[18a-P2-9] 深層学習を用いたマルチレベル異方性回折格子の設計

〇岡本 浩行¹、加藤 滉基¹、野村 志史¹、野田 浩平²、坂本 盛嗣²、佐々木 友之²、小野 浩司² (1.阿南高専、2.長岡技大)

キーワード：マルチレベル異方性回折格子、深層学習

深層学習を用いてマルチレベル異方性回折格子構造の設計を行うためのシステムを開発した．開発したシステムにより orthogonal circular(OC) 型偏光ホログラムの設計を行った．システムにより設計された構造はOC型構造とほぼ同じ構造であり，設計した構造の特性（電磁界分布および偏光の分布）は入力データに等しいことを確認した．これらの結果から開発したシステムによりマルチレベル異方性回折格子構造の設計が可能であると考えられる．