2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

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[18p-B201-1~14] 3.15 シリコンフォトニクス

2018年3月18日(日) 13:15 〜 17:30 B201 (53-201)

岡野 誠(産総研)、丸山 武男(金沢大)、藤方 潤一(PETRA)

17:15 〜 17:30

[18p-B201-14] 水素感応膜の製膜プロセス改善によるPt-Wo3/Siマイクロリング共振器水素ガスセンサの感度向上

松浦 壮佑1、山作 直樹2、國分 泰雄2、西島 喜明2、岡崎 慎司2、荒川 太郎2 (1.横浜国立大学、2.横浜国立大学大学院)

キーワード:ガスセンサ、水素ガス

以前報告した水素ガスセンサの製膜プロセスを改善し、感度が向上したため報告する。