2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

11 超伝導 » 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

[18p-B403-1~19] 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

2018年3月18日(日) 13:15 〜 18:30 B403 (53-403)

尾崎 壽紀(関西学院大)、寺西 亮(九大)、一野 祐亮(名大)

17:30 〜 17:45

[18p-B403-16] 傾斜したBaHfO3添加SmBa2Cu3Oy薄膜中の人工ピンニングセンターの形状に関する研究

村瀬 剛毅1、一野 祐亮1、土屋 雄司1、吉田 隆1 (1.名古屋大学)

キーワード:超伝導、薄膜、パルスレーザー蒸着法

これまでコンビナトリアル-パルスレーザー蒸着法において薄膜の組成を変化させることや、人工ピンニングセンターの新材料の探索などのためにパターンのプレートが用いられてきた。本研究では、パターンプレートを用いて傾斜させたREBCO高温超伝導薄膜の作製を行った。超伝導薄膜の表面形態や、磁場中の超伝導特性、BHOナノロッドの自己組織化形状を評価し、膜厚の傾斜が与える影響について検討した。