2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

11 超伝導 » 11.2 薄膜，厚膜，テープ作製プロセスおよび結晶成長

[18p-B403-1~19] 11.2 薄膜，厚膜，テープ作製プロセスおよび結晶成長

2018年3月18日(日) 13:15 〜 18:30 B403 (53-403)

尾崎 壽紀(関西学院大)、寺西 亮(九大)、一野 祐亮(名大)

15:15 〜 15:30

[18p-B403-8] Auイオン照射したFeSe0.5Te0.5薄膜の超伝導特性と微細構造観察

〇尾崎 壽紀1、Qiang Li2 (1.関学大理工、2.BNL)

キーワード：鉄系超伝導体、薄膜

FeSe0.5Te0.5(FST)薄膜に6 MeVという比較的低いエネルギーでAuイオン照射を行い、Auイオン照射によって形成される欠陥と超伝導特性との関係について検討を行った。Auイオン照射したFST薄膜のJcは照射前より高い値を示した。当日は、HRTEM像とともにAuイオン照射がFST薄膜の超伝導特性に及ぼす影響について詳しく議論する。