2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

11 超伝導 » 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

[18p-B403-1~19] 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

2018年3月18日(日) 13:15 〜 18:30 B403 (53-403)

尾崎 壽紀(関西学院大)、寺西 亮(九大)、一野 祐亮(名大)

15:30 〜 15:45

[18p-B403-9] 形状効果によるNdFeAs(O,F)薄膜のピン力向上

Iida Kazumasa1、カウフマンーヴァイス サンドラ2、大村 泰斗1、松本 拓也1、タランティーニ キアラ3、ヤロスンスキー ヤン3、畑野 敬史1、トーベン ボール2、ランガー マルコ2、ホルツアプフェル バーンハルド2、ヘーニッシュ イェンツ2、生田 博志1 (1.名大工、2.カールスルーエ工科大、3.米国立強磁場研)

キーワード:鉄系超伝導体、薄膜、ピン力密度

NdFeAs(O,F)はTcが高いにも関わらず,これまで報告された臨界電流特性はBaFe2As2 (Ba-122)系よりも低い。それに対して今回,膜厚20 nmのNdFeAs(O,F)薄膜で高い特性が得られた。4.2 Kにおけるピン力密度Fpは1 TN/m3を超えた。我々の知る限り鉄系超伝導体のFpが高磁場で1 TN/m3を超える値は報告されていない。