2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[18p-C102-1~16] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2018年3月18日(日) 13:45 〜 18:00 C102 (52-102)

内藤 泰久(産総研)、新宮原 正三(関西大)

16:30 〜 16:45

[18p-C102-11] 酸素空孔分布制御型4端子メモリスタ素子における抵抗変化機構の有限要素法シミュレーション

永田 善也1、清水 拓磨1、竹内 正太郎1、藤平 哲也1、酒井 朗1 (1.阪大院基礎工)

キーワード:メモリスタ、抵抗変化メモリ、酸化チタン