2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[18p-C102-1~16] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2018年3月18日(日) 13:45 〜 18:00 C102 (52-102)

内藤 泰久(産総研)、新宮原 正三(関西大)

17:00 〜 17:15

[18p-C102-13] 全固体酸化還元トランジスタを用いたSrVO3薄膜の導電率変調

高柳 真1,2、土屋 敬志2、並木 航1,2、樋口 透1、寺部 一弥2 (1.東理大、2.物材機構)

キーワード:全固体、酸化還元反応

固体電解質を用いた電気化学的なイオン挿入・脱挿入に伴う電子キャリア濃度の変調、即ち酸化還元反応に注目し、SrVO3の電気特性の変調を試みた。具体的には典型的なイオン種であるH+, Li+イオン伝導性の2種類の固体電解質(Y安定化ZrO2,及びLi4SiO4薄膜)を用いた全固体酸化還元トランジスタにおける導電率の変調を調査した。同じ1価のカチオンにも関わらず、H+イオンとLi+イオン電解質では導電率の変調に大きな違いが観察された。