2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[18p-C102-1~16] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2018年3月18日(日) 13:45 〜 18:00 C102 (52-102)

内藤 泰久(産総研)、新宮原 正三(関西大)

17:45 〜 18:00

[18p-C102-16] Ta2O5を用いた抵抗変化素子特性の酸素組成および膜厚依存性

宮谷 俊輝1、西 佑介1、木本 恒暢1 (1.京大工)

キーワード:抵抗変化メモリ、反応性スパッタリング