[18p-C204-1~9] 二次元シート合成とプラズマプロセス～超薄膜から原子層まで～

[18p-C204-8] プラズマ支援反応性プロセスを用いた高移動度IGZO薄膜の低温形成

〇節原 裕一¹、遠藤 雅¹、竹中 弘祐¹、内田 儀一郎¹、江部 明憲² (1.阪大接合研、2.イー・エム・ディー)

キーワード：酸化物半導体、スパッタリング