[18p-E201-1~13] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[18p-E201-7] 反応性ヘリコン波励起プラズマスパッタ法による誘電体分布ブラッグ反射鏡の形成 (2)

〇嶋 紘平¹、粕谷 拓生^1,2、菊地 清¹、小島 一信^1,2、秩父 重英^1,2 (1.東北大多元研、2.東北大工)

キーワード：反応性ヘリコン波励起プラズマスパッタ法、分布ブラッグ反射鏡、ハフニア

紫外線波長領域において高い反射率を有する高品質な誘電体（SiO₂/HfO₂）分布ブラッグ反射鏡を、独自の製膜法である反応性ヘリコン波励起プラズマスパッタ法により形成した結果を報告する。反射率を低下させる要因である、膜の表面粗さによる光の散乱、および材料による光の吸収の観点から議論を行う。