2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[18p-E202-1~22] 15.4 III-V族窒化物結晶

2018年3月18日(日) 13:15 〜 19:30 E202 (57-202)

荒木 努(立命館大)、片山 竜二(阪大)、藤倉 序章(サイオクス)

17:00 〜 17:15

[18p-E202-14] 放射光X線回折測定を用いたGaInN/InN成長のその場観察~InN解離温度領域での振る舞い~

山口 智広1、佐々木 拓生2、高橋 正光2、尾沼 猛儀1、本田 徹1、荒木 努3、名西 やすし3 (1.工学院大、2.量研、3.立命館大)

キーワード:MBE、InGaN、その場観察

これまで我々は、RF-MBE 法によるGaN上およびInN上GaInN成長時の、放射光X線回折測定を用いた成長初期過程のその場観察を行ってきた。成長初期段階では下地の格子定数にあわせるために、通常と異なる供給原料の取り込み過程が働きながらGaInNが成長することを観察している。今回はInN上GaInN成長に焦点を当て、特にInN解離温度領域での振る舞いを観察したので報告する。