2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[18p-P7-1~7] 13.3 絶縁膜技術

2018年3月18日(日) 13:30 〜 15:30 P7 (ベルサール高田馬場)

13:30 〜 15:30

[18p-P7-6] 組成が異なるシリコン窒化膜の紫外線照射後の伝導電流の変化

〇(M1)小林 大泰1、山口 真司1、小林 清輝1 (1.東海大院工)

キーワード：シリコン窒化膜