2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

[18p-P8-1~15] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

2018年3月18日(日) 13:30 〜 15:30 P8 (ベルサール高田馬場)

13:30 〜 15:30

[18p-P8-3] 窒素をデルタドープした GaAs の四光波混合測定

福島 崚太1、田久保 悠一1、佐久間 芳樹2、池沢 道男1 (1.筑波大物理、2.物材機構)

キーワード:四光波混合、窒素をデルタドープしたGaAs

GaAs に希薄にデルタドープされた窒素不純物によって形成される NX センターは、数百 ps 程度の短い寿命を持つ明るい単一光子源として有用である。束縛された励起子のコヒーレンス特性とゆらぎの時間スケールを理解することが重要であるが、これまでは非共鳴励起下での単一NXセンター発光の干渉測定による評価しか行われておらず、遅いスペクトル拡散の影響がどの程度あるか良く分かっていない。そこで、今回、ピコ秒パルスによる縮退四光波混合法(FWM)によって、窒素発光中心によるフォトンエコー信号を観測し、位相緩和時間を測定した。