PDF ダウンロード スケジュール 13 いいね! 0 コメント (0) 13:30 〜 15:30 [18p-P8-5] 分子線堆積法によるSiO2/半導体上へのInAs量子ドットの自己形成 〇山口 浩一1、ウイクラマナヤカ プラビーン1、馬飼野 彰宜1、坂本 克好1 (1.電通大 基盤理工) キーワード:量子ドット、InAs、SiO2