2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

[18p-P8-1~15] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

2018年3月18日(日) 13:30 〜 15:30 P8 (ベルサール高田馬場)

13:30 〜 15:30

[18p-P8-7] メタ表面赤外線検出器のためのn-GaAsへのノンアロイオーミック接合

間野 高明1、宮崎 英樹1、笠谷 岳士1、野田 武司1、佐久間 芳樹1 (1.物材機構)

キーワード:ガリウム砒素、オーミックコンタクト、メタ表面

現在我々はGaAs/AlGaAs量子井戸のサブバンド間遷移を用いたメタ表面量子井戸赤外線検出器に関する研究を進めている。今回、この検出器形成に必要な、n-GaAsへのノンアロイオーミック接合形成に関する検討を行った。既に報告例のある成長最表面層に加えて、埋め込まれた下部層に関しても、Siドープ量と成長温度を最適化することにより、ノンアロイオーミック接合が形成できることを明らかにした。